| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Hebelarms mit einer Spitze für ein Rasterkraftmikroskop. Die Erfindung betrifft ferner einen derartigen Hebelarm. Verfahrensgemäß wird zur Herstellung ein eine Spitze aufweisenden Wafer ein piezoresistiver Widerstand mittels C-MOS implantiert. Eine die Spitze bedeckende metallische Schicht wird auf den Wafer dann aufgebracht, wenn die Spitze im nachfolgenden Schritt geschützt werden muß oder ein Fotolack im nachfolgenden Schritt durchgehend beschädigt werden könnte. Das Metall ist so gewählt, daß es naßchemisch weggeätzt werden kann. Der Hebelarm und die Spitze bestehen dann im Unterschied zum Stand der Technik aus einem Stück. Im Hebelarm befindet sich unterhalb einer Oxidschicht ein piezoresistiver Widerstand. Die Spitze muß vorteilhaft trotz C-MOS-Verfahren nicht wie beim Stand der Technik nachträglich von Hand angeklebt werden.</p> |
