| 发明名称 | 曝光图形掩模及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种曝光图形掩模,包括一集成电路布线图形和一虚拟图形,所述集成电路布线图形由多个布线图形元素构成,所述虚拟图形由多个设置于所述布线图形元素末端附近的虚拟图形元素构成,该掩模可防止小尺寸布线图形元素曝光的失败。 | ||
| 申请公布号 | CN1211813A | 申请公布日期 | 1999.03.24 |
| 申请号 | CN98119343.9 | 申请日期 | 1998.09.17 |
| 申请人 | 日本电气株式会社 | 发明人 | 松本明 |
| 分类号 | H01L21/027 | 主分类号 | H01L21/027 |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 穆德骏 |
| 主权项 | 1．一种曝光图形掩模，其特征在于包括一个由多个布线图形元素组成的集成电路布线图形和一个由提供于所述布线图形元素末端附近的多个虚拟图形元素组成的虚拟图形。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||