| 发明名称 | 用于光损吸收的光波导装置及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种用于光损吸收的光波导装置及其制造方法。光波导装置包括一预定材料制成的基片;形成于基片上的一下覆层;形成于下覆层上的由具有较下覆层高的折射率的材料制成的一光波导;能够完全包围住光波导的一上覆层由具有较上覆层高的折射率的材料制成的,达到能够吸收一反射或辐射光信号的厚度的形成于上覆层之上的一吸收层。如前所述,吸收层可因制造波导形成于波导装置内,由此减少或消除一光信号的反射或辐射损失。 | ||
| 申请公布号 | CN1211740A | 申请公布日期 | 1999.03.24 |
| 申请号 | CN98119311.0 | 申请日期 | 1998.09.11 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 李泰衡;张祐赫;金银枝;李勇雨 |
| 分类号 | G02B6/10 | 主分类号 | G02B6/10 |
| 代理机构 | 中科专利代理有限责任公司 | 代理人 | 刘晓峰 |
| 主权项 | 1、一种用光损吸收的光波导装置，其特征在于，包括：一预定材料制成的基片；形成于基片上的一下覆层；形成于下覆层上的由具有较下覆层高的折射率的材料制成的一光波导；能够完全包围住光波导的一上覆层；由具有较上覆层高的折射率的材料制成的，达到能够吸收一反射或辐射光信号的厚度的，形成于上覆层之上的一吸收层。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||