发明名称 | 带有阻性耦合浮栅的铁电存储晶体管 | ||
摘要 | 本发明提出了一种新型的单晶体管存储器件,使用铁电材料的极化来存储信息。该器件为浮栅FET,具有铁电材料和电阻,铁电材料置于栅和浮栅之间,电阻最好是由浮栅与晶体管沟道之间的薄SiO<SUB>2</SUB>介质形式。和以前的设计不同,该器件中,浮栅可以容性且阻性耦合到晶体管沟道,所以可以低电压读写该器件。由于器件可耐久性取决于铁电材料的持久性而不是氧化物的击穿,该器件明显的优点是:低工作电压,高速度,重复次数超过10<SUP>10</SUP>次,且集成度达吉比特的密度。 | ||
申请公布号 | CN1211827A | 申请公布日期 | 1999.03.24 |
申请号 | CN98117294.6 | 申请日期 | 1998.08.14 |
申请人 | 国际商业机器公司 | 发明人 | C·T·布莱克;J·J·韦尔泽 |
分类号 | H01L29/786 | 主分类号 | H01L29/786 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王勇;王岳 |
主权项 | 1.一种场效应晶体管,包括:形成在半导体材料中的源区和漏区;置于所说源区和漏区之间的沟道区;置于所说沟道区上的电绝缘材料的绝缘层;置于所说绝缘层上的导电材料的浮栅层;置于所说浮栅层上的不导电铁电材料层;所说铁电材料层上的栅极;及将所说浮栅层阻性耦合到至少源区、漏区、和沟道区中的一个上的电阻。 | ||
地址 | 美国纽约州 |