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发明名称 POSITIVE RESIST COMPOSITION CONTAINING A NOVOLAK RESIN MADE FROM AN ALDEHYDE AND DIMER OF ISOPROPENYL PHENOL
摘要
申请公布号 KR0170395(B1) 申请公布日期 1999.03.20
申请号 KR19910008749 申请日期 1991.05.28
申请人 SUMITOMO CHEMICAL CO.,LTD. 发明人 UETANI, YASUNORI;TAKEYAMA, NAOKI;OSAKI, HARUYOSHI
分类号 C08G8/20;G03F7/023;(IPC1-7):G03F7/039 主分类号 C08G8/20
代理机构 代理人
主权项
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