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发明名称 LOW PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITING SYSTEM FOR FABRICATING A SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR0134742(Y1) 申请公布日期 1999.03.20
申请号 KR19920025629U 申请日期 1992.12.16
申请人 HYUNDAI ELECTRONICS IND. CO.,LTD 发明人 LEE, CHANG-SIK;PARK, SANG-HUN
分类号 H01L21/20;(IPC1-7):H01L21/20 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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