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发明名称 METHOD FOR FORMING A PHOTORESIST PATTERN
摘要
申请公布号 KR0172549(B1) 申请公布日期 1999.03.20
申请号 KR19960023211 申请日期 1996.06.24
申请人 HYUNDAI ELECTRONICS IND. CO.,LTD 发明人 BOK, CHUL-KYU
分类号 G03F7/00;(IPC1-7):G03F7/00 主分类号 G03F7/00
代理机构 代理人
主权项
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