| 主权项 |
1.一种式I之化合物其中R1为C1-C4烷基;R2为C1-C4烷基,n为0,1或2;R3为C1-C4烷基或C1-C2卤烷基;R4为氢,氟,氯或溴;R5为卤素,甲基或三氟甲基;R6为氢,卤素,NHR10,NR10R11或SO2Cl;R10及R11彼此独立为C3-C6烯基,C3-C6炔基或C1-C4烷基磺醯基;或R6为OR20;R20为氢,C1-C4烷基,C3-C6炔基,C1-C4烷氧基-C1-C4烷氧基-C1-C4烷基;或R20为C1-C4烷基-COXR21;X为氧;R21为C1-C6烷基;或R6为S(O)mR30;m为0;R30为氢,C1-C4烷基或C1-C4烷基-COVR31;V为氧;R31为C1-C4烷基;或R6为COYR50;Y为氧;R50为氢,C1-C4烷基,C1-C4烷基-COZR52;Z为氧或NR53;R52为氢,C1-C4烷基,C3-C6烯基,R53为C3-C6烯基;或R56为氢或C1-C4烷基;R57为氢或C1-C4烷基;或R6为C1-C6烷基-B,C1-C4卤烷基-B,C2-C6烯基-B,C2-C4卤-烯基-B,或C1-C4烷基硫-C1-C4烷基-B;且B为氢或-COZR52,以及式I化合物之盐类及立体异构物类。2.如申请专利范围第1项之化合物,其中R1为C1-C4烷基;R2为C1-C4烷基;n为0,1或2;R3为C1-C4烷基或C1-C2卤烷基;R4为氢,氟或氯;R5为卤素,甲基或三氟甲基;R6为氢,卤素,C1-C4烷基,C1-C4卤烷基,C2-C5烯基,C2-C5卤烯基,NHR10或NR10R11;R10及R11彼此独立为C3-C6烯基,C3-C6炔基或C1-C4烷基磺醯基;或R6为OR20;R20为氢,C1-C4烷基,C3-C6炔基或-C1-C4烷基-COXR21;X为氧;R21为C1-C6烷基;或R6为S(O)mR30;m为0;R30为氢,C1-C4烷基或C1-C4烷基-COVR31;V为氧;R31为C1-C4烷基;或R6为COYR50,Y为氧;R50为氢,C1-C4烷基,或C1-C4烷基-COZR52;Z为氧或NR53;R52为氢,C1-C4烷基,C3-C6烯基或基;R53为C3-C6烯基;或R6为C1-C4烷基COZR52,C1-C4卤烷基COZR52,C2-C4烯基COZR52或C2-C4卤烯基COZR52,以及式I化合物之盐类及立体异构物类。3.如申请专利范围第2项之化合物,其中R1为C1-C4烷基;R2为C1-C4烷基;n为0,1或2;R3为C1-C4烷基或C1-C2卤烷基;R4为氢,氟或氯;R6为卤素,甲基或三氟甲基;R6为氢,卤素,NHR10或NR10R11;R10及R11彼此独立为C3-C6烯基,C3-C6炔基或C1-C4烷基磺醯基;或R6为OR20;R20为氢,C1-C4烷基,C3-C6炔基或-C1-C4烷基-COXR21;X为氧;R21为C1-C6烷基;或R6为S(O)mR30;m为0;R30为氢,C1-C4烷基,或C1-C4烷基-COVR31;V为氧;R31为C1-C4烷基;或R6为COYR50;Y为氧;R50为氢,C1-C4烷基;或C1-C4烷基-COZR52;Z为氧或NR53;R52为氢,C1-C4烷基,C3-C6烯基或基;R53为C1-C6烯基;或R6为C1-C4烷基COZR52,C1-C4卤烷基COZR52,C2-C4烯基COZR52或C2-C4卤烯基COZR52,以及式I化合物之盐类及立体异构物类。4.如申请专利范围第1项之化合物,其中R5为氯,溴,甲基或三氟甲基。5.如申请专利范围第1项之化合物,其中R6为氢,卤素,OR20,S(O)mR30或COYR50。6.如申请专利范围第1项之化合物,其中n为0或2。7.如申请专利范围第1项之化合物,其中R1为甲基。8.如申请专利范围第1项之化合物,其中R2为甲基。9.如申请专利范围第1项之化合物,其中R3为甲基或乙基。10.如申请专利范围第9项之化合物,其中R3为甲基。11.如申请专利范围第1项之化合物,其中R4为氟。12.如申请专利范围第1项之化合物,其中R4为氢。13.如申请专利范围第1项之化合物,其中R4为氯。14.如申请专利范围第1项之化合物,其中R4为氯;且R6为OR20,其中R20具有如申请专利范围第1项之定义。15.如申请专利范围第1项之化合物,其中R4为氟;且R6为OR20,其中R20具有如申请专利范围第1项之定义。16.如申请专利范围第1项之化合物,其中R4为氯;且R6为S(O)mR,其中R30及m具有如申请专利范围第1项之定义。17.如申请专利范围第1项之化合物,其中R4为氟;且R6为S(O)mR30,其中R30及m具有如申请专利范围第1项之定义。18.如申请专利范围第1项之化合物,其中R4为氯;且R6为COYR50,C1-C4烷基COZR52,C1-C4卤烷基COZR52,C2-C4烯基COZR52或C2-C4卤烯基COZR52,其中R50,R52,Y及Z具有如申请专利范围第1项之定义。19.如申请专利范围第1项之化合物,其中R4为氟;且R6为COYR50,C1-C4烷基COZR52,C1-C4卤烷基COZR52,C2-C4烯基COZR52或C2-C4卤烯基COZR52,其中R50,R52,Y及Z具有如申请专利范围第1项之定义。20.如申请专利范围第1项之化合物,其中R5为氯;且R6为-COYR50。21.如申请专利范围第1项之化合物,其中R5为氯;且R6为C1-C4烷基-B或C1-C4卤烷基-B。22.一种式XV之化合物其中R1及R3至R6具有如申请专利范围第1项之定义。23.一种除草性及植物生长抑制性组成物,其包括一种或多种如申请专利范围第1项之式I化合物。24.如申请专利范围第23项之组成物,其中含有自0.1至95%之如申请专利范围第1项之式I化合物。25.一种控制不欲植物生长的方法,其包括将有效量之如申请专利范围第1项之式I化合物,或包括该化合物之组成物,施用于植物或其所在位置。26.如申请专利范围第25项之方法,其包括每公顷施用自0.001至2公斤之式I化合物。27.一种抑制植物生长的方法,其包括将有效量之如申请专利范围第1项之式I化合物,或包括该化合物之组成物,施用于植物或其所在位置。 |
