| 摘要 |
<p>Verfahren und Vorrichtung zur optimierten photochemischen Behandlung von ggf. mit Additiven versehenen Stoffen mittels Strahlung, bestehend aus einem Bestrahlungsraum (6), in welchem der zu bestrahlende Stoff in Luftatmosphäre, in geringem Abstand an einer gekühlten Bestrahlungseinheit (1), vorbeigeführt wird, die keinen direkten Kontakt zu dem zu behandelnden Stoff besitzt und welche aus mindestens einer parallel so darüber angeordneten Reflektoreinheit (3) besteht, daß nahezu die gesamte emittierte Strahlung mit kurzen Strahlungswegen auf den zu bestrahlenden Stoff (14) gelenkt wird.</p> |
