发明名称 | 磁头超声波清洗方法 | ||
摘要 | 一种T/F磁头超声波清洗方法包括以下步骤:在装有清洗剂的清洗缸内对T/F磁头进行超声波清洗;在装有DI循环水的预漂洗缸内对T/F磁头进行超声波预漂洗;在装有DI循环水的最终漂洗缸内对T/F磁头进行超声波最终漂洗;以热风将T/F磁头烘干,以及将T/F磁头置于真空烘干缸内将其烘干的步骤。这种T/F磁头超声波清洗方法,清洗效果大大改善,有效地降低了由于磁头超声清洗带来的掉头及乱片断裂、目检断线率、万用表废品率及总废品率,从而提高了产品合格率。 | ||
申请公布号 | CN1210329A | 申请公布日期 | 1999.03.10 |
申请号 | CN97114248.3 | 申请日期 | 1997.09.04 |
申请人 | 深圳开发科技股份有限公司 | 发明人 | 杨光勇;刘少明;史初浪;朱晓云 |
分类号 | G11B5/41 | 主分类号 | G11B5/41 |
代理机构 | 深圳市专利服务中心 | 代理人 | 郭伟刚 |
主权项 | 1.一种T/F磁头超声波清洗方法,其特征在于包括以下步骤:在装有清洗剂的清洗缸内对T/F磁头进行超声波清洗的步骤;在装有DI循环水的预漂洗缸内对T/F磁头进行超声波预漂洗的步骤;在装有DI循环水的最终漂洗缸内对T/F磁头进行超声波最终漂洗的步骤;以热风将T/F磁头烘干的步骤,以及将T/F磁头置于真空烘干缸内将其烘干的步骤。 | ||
地址 | 518026广东省深圳市福田区彩田路北开发科技综合楼 |