| 发明名称 |
DEVICE AND METHOD FOR PROCESSING PLASMA |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH1167727(A) |
申请公布日期 |
1999.03.09 |
| 申请号 |
JP19970222714 |
申请日期 |
1997.08.19 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
SASAKI SHINJI;ANAMI HIDETOSHI;TSUNODA SHIGERU |
| 分类号 |
C23C16/50;C23F4/00;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
C23C16/50 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
