| 发明名称 |
METHOD OF CLEANING IN SILICON WAFER |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH1167780(A) |
申请公布日期 |
1999.03.09 |
| 申请号 |
JP19970243370 |
申请日期 |
1997.08.25 |
| 申请人 |
TOSHIBA CERAMICS CO LTD;PURE RETSUKUSU:KK |
发明人 |
KOBAYASHI NORIO;MURAOKA HISASHI |
| 分类号 |
H01L21/322;H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/322 |
主分类号 |
H01L21/322 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
