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发明名称 GAS SUPPLY METHOD TO REACTION CHAMBER AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING DEVICE
摘要
申请公布号 JPH1167726(A) 申请公布日期 1999.03.09
申请号 JP19970222628 申请日期 1997.08.19
申请人 FUJITSU LTD 发明人 CHIBA SHIYOU
分类号 C23C16/44;C23C16/455;C23F4/00;H01L21/027;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
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