发明名称 METHOD AND SYSTEM FOR SUPPLYING SEVERAL ELECTRODES FOR PLASMA PROCESSES WITH ALTERNATING VOLTAGES OF PREDEFINED PHASE POSITION
摘要 <p>Verfahren und Anordnung zur Versorgung mehrerer Elektroden für Plasmaprozesse mit Wechselspannungen vorbestimmter Phasenlage. Erfindungsgemäß wird deren Phasenlage geregelt. Die an den Elektroden (2, 3) anliegenden Spannungen können direkt an den Elektroden über Spannungsteiler (8, 9; 10, 11) abgegriffen werden. Die Sollwerte können unabhängig voneinander einstellbar, außerdem durch Regelsysteme oder eine Modulationsschaltung vorgegeben sein. Die Anordnung kann zur Regelung anderer elektrischer Parameter, z.B. des Bias-UDC-Potentials, verwendet werden.</p>
申请公布号 WO1999010912(A1) 申请公布日期 1999.03.04
申请号 EP1998005308 申请日期 1998.08.20
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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