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发明名称 METHOD FOR CHEMICAL TREATMENT, METHOD FOR TREATING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 JPH1154468(A) 申请公布日期 1999.02.26
申请号 JP19970203405 申请日期 1997.07.29
申请人 NEC CORP 发明人 HASE USHIO;YAMAMOTO KENICHI;MIYAZAWA ICHIRO
分类号 H01L21/00;H01L21/304;H01L21/306;H01L21/311;H01L21/66;(IPC1-7):H01L21/304 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
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