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发明名称 Positiv-arbeitende Fotolackzusammensetzung
摘要
申请公布号 DE69413312(T2) 申请公布日期 1999.02.25
申请号 DE19946013312T 申请日期 1994.06.15
申请人 SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD., OSAKA, JP 发明人 HISHIRO, YOSHIKI, SAN MATEO, CALIFORNIA 94402, US
分类号 G02B5/20;G03F7/00;G03F7/004;G03F7/028;G03F7/039;G03F7/105;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/004;G03C7/12;G03F7/022;G03F7/095 主分类号 G02B5/20
代理机构 代理人
主权项
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