| 摘要 |
<p>Die Erfindung bezieht sich auf eine Ellipsometer-Meßvorrichtung zum Bestimmen der Dicke einer auf einem Substrat aufgebrachten Schicht mit einer einen Eingangsstrahl (9) abgebenden Lichtquelle (3), einer den polarisierten Eingangsstrahl (9) zu einem Auftreffpunkt (P) des Substrats leitenden Sendeoptik und einer den am Auftreffpunkt (P) gebildeten Reflexionsstrahl (10) zu einer Fotoempfängereinrichtung (5.7) leitenden, einen Analysator (5.4) aufweisenden Empfangsoptik, wobei die Polarisationsrichtung des Eingangsstrahls (9) und des Analysators (5.4) zeitlich relativ zueinander geändert und die dadurch erzeugten Intensitätsänderungen mittels einer Auswerteeinrichtung (7) zur Bestimmung der Schichtdicke ausgewertet werden. Eine einfache Handhabung und genaue Messung der Schichtdicke wird auch an schwer zugänglichen und unterschiedlich gekrümmten Meßobjekten dadurch erzielt, daß eine Winkelmeßeinrichtung (5.7, 7.1) vorgesehen ist, mit der der Winkel (β) des Reflexionsstrahls (10) relativ zu einer Tangentialebene des Substrats am Aufreffpunkt (P) erfaßbar ist und daß die Schichtdicke mittels der Auswerteeinrichtung (7) in Abhängigkeit des erfaßten Winkels β bestimmbar ist.</p> |
