| 发明名称 |
POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD BY USING THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH1138623(A) |
申请公布日期 |
1999.02.12 |
| 申请号 |
JP19970190132 |
申请日期 |
1997.07.15 |
| 申请人 |
FUJI PHOTO FILM CO LTD |
发明人 |
UENISHI KAZUYA;AOSO TOSHIAKI;SAKAGUCHI SHINJI |
| 分类号 |
G03F7/004;C08L25/18;G03F7/039;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/039 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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