| 发明名称 |
SELECTIVE ETCHING LIQUID FOR TITANIUM BASED FILM AND SILICON OXIDE FILM, AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING IT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH1140550(A) |
申请公布日期 |
1999.02.12 |
| 申请号 |
JP19970191179 |
申请日期 |
1997.07.16 |
| 申请人 |
MATSUSHITA ELECTRON CORP |
发明人 |
ISHIDA HIDETOSHI;UEDA DAISUKE;NOMA JUNJI |
| 分类号 |
H01L21/308;C09K13/08;H01L21/306;(IPC1-7):H01L21/308 |
主分类号 |
H01L21/308 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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