| 发明名称 |
METHOD FOR DRY-CLEANING SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH1140502(A) |
申请公布日期 |
1999.02.12 |
| 申请号 |
JP19970189453 |
申请日期 |
1997.07.15 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
KITSUNAI HIROYUKI;TSUNODA SHIGERU;TAMURA TOMOYUKI |
| 分类号 |
C23C14/00;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/304;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/205;H01L21/306 |
主分类号 |
C23C14/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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