PATTERN EXPOSURE SYSTEM, PATTERN EXPOSURE METHOD, AND RECORDING MEDIUM HAVING RECORDING PATTERN EXPOSURE PROCESS PROGRAM,申请号JP19970193851-传众专利搜索

发明名称	PATTERN EXPOSURE SYSTEM, PATTERN EXPOSURE METHOD, AND RECORDING MEDIUM HAVING RECORDING PATTERN EXPOSURE PROCESS PROGRAM
摘要
申请公布号	JPH1140475(A)	申请公布日期	1999.02.12
申请号	JP19970193851	申请日期	1997.07.18
申请人	NEC CORP	发明人	NAKAJIMA KEN
分类号	G03F7/20;H01J37/147;H01J37/302;H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027	主分类号	G03F7/20
代理机构		代理人
主权项
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