首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Methode zur Bildung von Metallsilizidschichten auf Source- und Draingebiete
摘要
申请公布号 DE69506951(D1) 申请公布日期 1999.02.11
申请号 DE19956006951 申请日期 1995.06.20
申请人 NEC CORP., TOKIO/TOKYO, JP 发明人 MOGAMI, TOHRU, C/O NEC CORPORATION, TOKYO, JP;TATSUMI, TORU, C/O NEC CORPORATION, TOKYO, JP
分类号 H01L21/28;H01L21/285;H01L21/336;H01L21/8238;H01L27/092;H01L29/78;(IPC1-7):H01L21/320;H01L21/768 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com