Negative lichtempfindliche Zusammensetzung und Verfahren zur Bildung eines Photolackmusters,申请号DE19916030003T-传众专利搜索

发明名称	Negative lichtempfindliche Zusammensetzung und Verfahren zur Bildung eines Photolackmusters
摘要
申请公布号	DE69130003(T2)	申请公布日期	1999.02.11
申请号	DE19916030003T	申请日期	1991.05.23
申请人	MITSUBISHI CHEMICAL CORP., TOKIO/TOKYO, JP	发明人	OCHIAI, TAMEICHI, SAGAMIHARA-SHI, KANAGAWA-KEN, JP;TAKAHASHI, NORIAKI, YOKOHAMA-SHI, KANAGAWA-KEN, JP;ISHIGURO, TOMOYO, YOKOHAMA-SHI, KANAGAWA-KEN, JP;YOSHIZAWA, MIKA, MACHIDA-SHI, TOKYO, JP
分类号	G03F7/004;G03F7/029;(IPC1-7):G03F7/004	主分类号	G03F7/004
代理机构		代理人
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