| 发明名称 |
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PRODUCTION OF RELIEF PATTERN USING THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH1124267(A) |
申请公布日期 |
1999.01.29 |
| 申请号 |
JP19970180192 |
申请日期 |
1997.07.04 |
| 申请人 |
HITACHI CHEM CO LTD |
发明人 |
TSUCHIKAWA SHINJI;NISHIZAWA HIROSHI;OTA FUMIHIKO;KAWAKAMI HIROYUKI;SAKATA TOICHI |
| 分类号 |
G03F7/027;C08F246/00;C08F290/06;C08L55/00;C08L57/00;C08L79/08;G03F7/028;G03F7/038;H05K3/06;H05K3/18;H05K3/28;(IPC1-7):G03F7/038 |
主分类号 |
G03F7/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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