| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR CLEANING SEMICONDUCTOR WAFER IN ONE CONTAINER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH1126418(A) |
申请公布日期 |
1999.01.29 |
| 申请号 |
JP19970179317 |
申请日期 |
1997.07.04 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
TSUTSUI YOSHITAKA;OTA KATSUHIRO;NOGUCHI YUJI;ITO HARUO;HIRABAYASHI HISAAKI;SAITO AKIO;TANAKA YUICHIRO |
| 分类号 |
H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
H01L21/304 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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