| 发明名称 |
PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE MATERIAL, AND MANUFACTURE OF RELIEF PATTERN AND POLYIMIDE PATTERN |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH1124256(A) |
申请公布日期 |
1999.01.29 |
| 申请号 |
JP19970177505 |
申请日期 |
1997.07.03 |
| 申请人 |
HITACHI CHEM CO LTD |
发明人 |
SASAKI HAN;KO MASAHIKO;KOJIMA YASUNORI |
| 分类号 |
G03F7/004;C08L79/08;C09D4/06;G03F7/027;G03F7/029;G03F7/038;(IPC1-7):G03F7/029 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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