发明名称 Fotoempfindliche Zusammensetzung
摘要
申请公布号 DE69502645(T2) 申请公布日期 1999.01.28
申请号 DE1995602645T 申请日期 1995.03.03
申请人 MITSUBISHI CHEMICAL CORP., TOKIO/TOKYO, JP;KONICA CORP., HINO, TOKIO/TOKYO, JP 发明人 TSUJI, SHIGEO, C/O YOKOHAMA RES. CENTER, AOBA-KU, YOKOHAMA-SHI, KANAGAWA 227, JP;MURATA, AKIHISA, C/O YOKOHAMA RES. CENTER, AOBA-KU, YOKOHAMA-SHI, KANAGAWA 227, JP;MATSUMURA, TOSHIYUKI, C/O KONICA CORPORATION, HINO-SHI, TOKYO, JP;ISHII, NOBUYUKI, C/O KONICA CORPORATION, HINO-SHI, TOKYO, JP;KIDU, NORIYUKI, C/O KONICA CORPORATION, HINO-SHI, TOKYO, JP
分类号 G03F7/021;G03F7/033;G03F7/32;(IPC1-7):G03F7/021 主分类号 G03F7/021
代理机构 代理人
主权项
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