| 发明名称 |
CLEANING METHOD OF ALUMINUM PARTS FOR SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING EQUIPMENT |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH1121683(A) |
申请公布日期 |
1999.01.26 |
| 申请号 |
JP19970174654 |
申请日期 |
1997.06.30 |
| 申请人 |
SUMITOMO METAL IND LTD |
发明人 |
TAKANO YUICHI;MAEDA HISASHI |
| 分类号 |
B08B3/04;C23G1/12;H01L21/304;H01L21/31;(IPC1-7):C23G1/12 |
主分类号 |
B08B3/04 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
