主权项 |
1.一种第三-五族化合物半导体,其结构中的第一层由通式为InxGayAlzN(x+y+z=1,0<x<1,0<y<1,0≦z<1)的第三-五族化合物半导体所形成,第二层是由通式为Gax'Aly'N(x'+y'=1,0<x'≦1,0≦y'<1)的第三-五族化合物半导体所形成,第三层是由通式为Gax"Aly"N(x"+y"=1,0<x"≦1,0≦y"<1)的第三-五族化合物半导体所形成,这些层依此顺序堆叠于另一层上方,此第三-五族化合物半导体之特征在于第一层厚度为5A至90A。2.一种第三-五族化合物半导体,其结构中的第五层由通式为GaaAlbN(a+b=1,0≦a<1,0≦b≦1)的第三-五族化合物半导体所形成,第一层由通式为InxGayAlzN(x+y+z=1,0<x<1,0<y<1,0≦z<1)的第三-五族化合物半导体所形成,此二层依此顺序堆叠于另一层上方,此第三-五族化合物半导体之特征在于第一层厚度为5A至90A。3.一种第三-五族化合物半导体,其结构中的第五层由通式为GaaAlbN(a+b=1,0≦a<1,0≦b≦1)的第三-五族化合物半导体所形成,第四层的杂质含量比第五层来得低,是由通式为Gra'Alb'N(a'+b'=1,0≦a'<1,0≦b'≦1)的第三-五族化合物半导体所形成,第一层由通式为InxGayAlzN(x+y+z=1,0<x<1,0<y<1,0<z≦1)的第三-五族化合物半导体所形成,此第三-五族化合物半导体之特征在于第一层厚度为5A至90A。4.一种第三-五族化合物半导体,其结构中的第五层由通式为GaaAlbN(a+b=1,0≦a<1,0≦b≦1)的第三-五族化合物半导体所形成,第四层的杂质含量比第五层来得低,是由通式为Gaa'Alb'N(a'+b'=1,0≦a'<1,0≦b'≦1)的第三-五族化合物半导体所形成,第一层由通式为InxGayAlzN(x+y+z=1,0<x<1,0<y<1,0<z≦1)的第三-五族化合物半导体所形成,第二层是由通式为Gax'Aly'N(x'+y'=1,0<x' 1,0≦y'<1)的第三-五族化合物半导体所形成,第三层是由通式为Gax"Aly"N(x"+y"=1,0<x"≦1,0≦y"<1)的第三-五族化合物半导体所形成,这些层依此顺序堆叠于另一层上方,此第三-五族化合物半导体之特征在于第一层厚度为5A至90A。5.如申请专利范围第1或4项之第三-五族化合物半导体,其结构中由通式为Gax'Aly'N(x'+y'=1,0<x'≦1,0≦y'<1)的第三-五族化合物半导体所形成的第二层的厚度介于50A和1微米之间。6.如申请专利范围第1-4项中任何一项之第三-五族化合物半导体,其中,由通式为InxGayAlzN(x+y+z=1,0<x<1,0<y<1,0≦z<1)的第三-五族化合物半导体所形成的第一层中之Si、Ge、Zn、Cd和Mg的每一者之浓度不超过11019/立方公分。7.如申请专利范围第5项三-五族化合物半导体,其中,由通式为InxGayAlzN(x+y+z=1,0<x<1,0<y<1,0≦z<1)的第三-五族化合物半导体所形成的第一层中之Si、Ge、Zn、Cd和Mg的每一者之浓度不超过11019/立方公分。8.如申请专利范围第1或4项之第三-五族化合物半导体,其中,由通式为Gax'Aly'N(x'+y'=1,0<x'≦1,0≦y'<1)的第三-五族化合物半导体所形成的第二层中之Mg浓度不超过11019/立方公分。9.如申请专利范围第5项之第三-五族化合物半导体,其中,由通式为Gax'Aly'N(x'+y'=1,0<x'≦1,0≦y'<1)的第三-五族化合物半导体所形成的第二层中之Mg浓度不超过11019/立方公分。10.如申请专利范围第6项之第三-五族化合物半导体,其中,由通式为Gax'Aly'N(x'+y'=1,0<x'≦1,0≦y'<1)的第三-五族化合物半导体所形成的第二层中之Mg浓度不超过11019/立方公分。11.如申请专利范围第7项之第三-五族化合物半导体,其中,由通式为Gax'Aly'N(x'+y'=1,0<x'≦1,0≦y'<1)的第三-五族化合物半导体所形成的第二层中之Mg浓度不超过11019/立方公分。12.一种制造第三-五族化合物半导体的方法,此方法是在通式为InxGayAlzN(x+y+z=1,0<x<1,0<y<1,0≦z<1)的第三-五族化合物半导体所形成的第一层成长之后,于超过1000℃的温度下使由通式为Gax"Aly"N(x"+y"=1,0<x"≦1,0≦y"<1)的第三-五族化合物半导体所形成的第三层成长,此方法的特征在于:第一层成长之后、第三层成长之前,使由通式为Gax'Aly'N(x'+y'=1,0<x'≦1,0≦y'<1)的第三-五族化合物半导体所形成第二层于1000℃或较低的温度下成长。13.一种发光元件,其特征为其使用如申请专利范围第1-4项中任何一项之第三-五族化合物半导体。图式简单说明:第一图是根据本发明之发光元件的构造图(即,根据第二个实施例而制造的发光元件构造);第二图是根据本发明之发光元件的构造图;而第三图是根据本发明之发光元件的构造图(即,根据第一个实施例而制造的发光元件构造)。第四图是20毫安培时,由第一和第三个实施例制得之LED的内部量子效率与第一层厚度之间的关系。第五图是由第四、第五和第六个实施例制得的第三-五族化合物半导体之构造图。 |