| 主权项 |
1.一种以液面超音波在薄膜材料上形成薄化区域的方法,其中每一被薄化之区域的面积一般大于约10平方微米,该方法包含下列步骤:(a)将薄片材料置放在具有凸区样式的模砧上,其中凸区的高度一般小于薄膜材料的厚度;(b)在薄片材料被安置在模砧上时,将薄片输送到薄片材料被施加液体的地区;以及(c)投射一足量的超音波振动于薄片材料上被施加液体的区域以便在薄片材料上穿微孔;因此该薄片材料一般以同于模砧凸区的样式被局部薄化。2.依申请专利范围第1项所述的方法,其中液体择自包含水、矿油、氯化烃、乙二醇或者体积百分率50%之水与2-丙醇的水溶液的群中。3.依申请专利范围第1项所述的方法,其中氯化烃择自包含1,1,1-三氯乙烷或四氯化碳的群中。4.依申请专利范围第1项所述的方法,其中被薄化的区域为微区域。5.依申请专利范围第4项所述的方法,其中每一被薄化的之微区域的面积范围一般介于至少约10平方微米至100,000平方微米之间。6.依申请专利范围第4项所述的方法,其中每一被薄化的之微区域的面积范围一般介于至少约10平方微米至1,000平方微米之间。7.依申请专利范围第4项所述的方法,其中每一被薄化的之微区域的面积范围一般介于至少约10平方微米至100平方微米之间。8.依申请专利范围第4项所述的方法,其中薄片材料以至少约1000薄化区域/平方英寸的密度被局部薄化。9.依申请专利范围第4项所述的方法,其中薄片材料以至少约5000薄化区域/平方英寸的密度被局部薄化。10.依申请专利范围第4项所述的方法,其中薄片材料以至少约20000薄化区域/平方英寸的密度被局部薄化。11.依申请专利范围第4项所述的方法,其中薄片材料以至少约90000薄化区域/平方英寸的密度被局部薄化。12.依申请专利范围第4项所述的方法,其中薄片材料以至少约160,000薄化区域/平方英寸的密度被局部薄化。13.依申请专利范围第4项所述的方法,其中模砧择自由钢孔滤网、具凸区之平板、具凸区之圆柱滚筒所组成的群中。14.依申请专利范围第4项所述的方法,其中薄片材料只在预先指定的地区上被局部薄片。15.依申请专利范围第4项所述的方法,其中薄片材料在(b)与(c)之步骤中被处理超过一次。16.依申请专利范围第4项所述的方法,其中凸区的高度大于薄片材料的厚度,并且薄片材料是由具弹性的材料形成,因而薄片材料被局部薄化。17.一用以液面超音波在薄膜材料上形成薄化区域的方法,其中每一薄化区域的面积一般大于10平方微米,该法包含下列步骤:将薄片放置在模砧上,该模砧包含:一耐用金属线滤网;一垫片平板;以及一精制网孔滤网,其具有高度小于薄片材料厚度之凸出肘节;将安置在精制网孔金属线滤网上的薄片材料输送过该材料被施加水的地区;以及利用超音波焊头将足够量之超音波振动投射于薄片材料上被施加水的地方以便局部薄化薄片材料;并因此薄片材料以至少约100000薄化区域/平方英寸的密度依一般同于精制网孔金属线滤网之凸出肘节的样式被局部薄化。18.依申请专利范围第17项所述的方法,其中凸区的高度大于薄片材料的厚度,并且薄片材料走出具弹性的材料形成,因而薄片材料被局部薄化。19.依申请专利范围第17项所述的方法,其中超音波焊头具一依相关于薄片材料之角度自约5度至15度来排列的尖端。20.依申请专利范围第17项所述的方法,其中超音波焊头具一依相关于薄片材料之角度自约7度至13度来排列的尖端。21.依申请专利范围第17项所述的方法,其中超音波焊头具一依相关于薄片材料之角度自约9度至11度来排列的尖端。22.一用以液面超音波在薄膜材料上形成薄化区域的方法,其中每一薄化区域的面积一般大于10至100平方微米之间,该法包含下列步骤:将薄片放置在模砧上,该模砧包含:一耐用金属线滤网;一垫片平板;以及一精制网孔滤网,其具有高度小于薄片材料厚度之凸出肘节;将安置在精制网孔金属线滤网上的薄片材料输送过该材料被施加水的地区;以及利用超音波焊头将足够量之超音波振动投射于薄片材料上被施加水的地方以便局部薄化薄片材料;并因此薄片材料以至少约100000薄化区域/平方英寸的密度依一般同于精制网孔金属线滤网之凸出肘节的样式被局部薄化。23.依申请专利范围第22项所述的方法,其中凸区的高度大于薄片材料的厚度,并且薄片材料是由具弹性的材料形成,因而薄片材料被局部薄化。24.依申请专利范围第23项所述的方法,其中超音波焊头具一依相关于薄片材料之角度自约5度至15度来排列的尖端。25.依申请专利范围第1项所述之薄片材料,该薄片材料具有至少约1000薄化区域/平方英寸。26.依申请专利范围第25项所述的薄片材料,其中该薄片材料每平方英寸至少具有5000个薄化区域。27.依申请专利范围第25项所述的薄片材料,其中该薄片材料每平方英寸至少具有20000个薄化区域。28.依申请专利范围第25项所述的薄片材料,其中该薄片材料每平方英寸至少具有90000个薄化区域。29.依申请专利范围第25项所述的薄片材料,其中该薄片材料的平均厚度至少约0.25密尔。30.依申请专利范围第25项所述的薄片材料,其中该薄片材料的平均厚度自约0.25密尔至约5密尔之间。31.依申请专利范围第25项所述的薄片材料,其中该薄片材料的平均厚度自约2密尔至约5密尔之间。32.依申请专利范围第25项所述的薄片材料,其中该薄片材料的平均厚度自约0.5密尔至约1密尔之间。33.依申请专利范围第25项所述的薄片材料,其中该区域为微区域。34.依申请专利范围第33项所述的薄片材料,其中每一被薄化的之微区域的面积范围一般介于至少约10平方微米至100,000,平方微米之间。35.依申请专利范围第33项所述的薄片材料,其中每一被薄化的之微区域的面积范围一般介于至少约10平方微米至10000平方微米之间。36.依申请专利范围第33项所述的薄片材料,其中每一被薄化的之微区域的面积范围一般介于至少约10平方微米至5000平方微米之间。37.依申请专利范围第33项所述的薄片材料,其中每一被薄化的之微区域的面积范围一般介于至少约10平方微米至1000平方微米之间。38.依申请专利范围第25项所述的薄片材料,其中局部薄化被限制在预先指定之地区上或者薄片材料的地区上。39.依申请专利范围第25项所述的薄片材料,其中该薄片材料为非水溶性材料,并且薄片材料的水气传送率至少约每日200克/平方公尺。40.依申请专利范围第25项所述的薄片材料,其中该薄片材料为非水溶性材料,并且薄片材料的水气传送率至少约每日500克/平方公尺。41.依申请专利范围第25项所述的薄片材料,其中该薄片材料为非水溶性材料,并且薄片材料的水气传送率至少约每日1000克/平方公尺。图式简单说明:第一图示一代表性设备,该设备系利用超音波振动在薄片材料上形成薄化区域的设备。第二图为运输机制的横断面视图,该机制将薄片材料运输到施加超音波振动的区域上。第三图是薄片材料被施以超音波振动的区域之详细视图。这个区域在第一图中是以虚圆来表示的。第四图是1.0密尔厚聚乙烯膜之薄片材料的微照片,该聚乙烯膜已经依本发明之方法被局部薄化,此微照片附有一尺,尺上每一单位度量代表10微米。第五图为一1.4mil厚之商标为"Evlon"之杜邦薄膜的微照片,该薄膜依本发明已局部被薄化。本照片附一尺,尺上每一单位为10微米。第六图为一0.8mil厚之商标为Flexel V-58的赛璐玢薄片之显微照片,其中该薄片依发明已局部被薄化。该照片附有一尺,尺上每一刻度为10微米。 |
