发明名称 分析系统及方法
摘要 一种分析或预备系统,其包含一底座单元、一调整器及一基底。该调整器被接合至一位在该底座单元上之接合区,而该基底被接合至一位在该调整器上之接合区。该调整器容许该底座单元可界面接触广泛种类之不同基底,以进行化学及生物之分析及制备流程。
申请公布号 TW350914 申请公布日期 1999.01.21
申请号 TW086111013 申请日期 1997.08.01
申请人 克里柏科技股份有限公司 发明人 凯文Y.H.周
分类号 G01N35/00 主分类号 G01N35/00
代理机构 代理人 康伟言 台北巿南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种用以操作物质的系统,其包含:一底座单元,其具有一带有一底座界面列之接合区,该界面列内包括至少一界面组件;一调整器,其被构形成可脱离地接合至该接合区,并具有一包括至少一界面组件的调整器-底座界面列,该界面组件被设置成当该调整器被接合至该接合区,与一位在该底座界面列内之对应界面组件相配合,一基底接合区以及一内含至少一界面组件之调整器-基底界面列;以及一基底,其被构形成可脱离地接合至该调整器之基底接合区,并具有一包括至少一界面组件的基底界面列,该界面组件被设置成当该基底被接合至该基底接合区时,会与一位在该调整器-基底界面列内之对应界面组件相配合。2.如申请专利范围第1项之用以操作物质的系统,其中该底座界面列包括至少一择自于由下列所组成之群中的界面组件:电动力源、类比信号连接器、数位信号连接器、能量传递源、pH値检测器、能量放射检测器以及电/电化学信号检测器。3.如申请专利范围第1项之用以操作物质的系统,其中该调整器-基底列包括至少一择自于由下列所组成之群中的界面组件:电动力源、类比信号连接器、数位信号连接器、能量传递源、pH値捡测器、能量放射检测器以及电/电化学信号检测器。4.如申请专利范围第1或2项之用以操作物质的系统,其中该能量传递源系择自于下列所组成之群中:光源、声能源、热源、冷却源及压力源。5.如申请专利范围第1项之用以操作物质的系统,其中该底座单元包含一数位处理器。6.如申请专利范围第1项之用以操作物质的系统,其中该底座界面列包含至少数个被设置成与位在该调整器之调整器-底座界面列上的电力电极相配合的电力电极,以及至少数个被设置成与位在该调整器之调整器-底座界面列上的电信号电极相接合的电信号电极,其中该等电极将电力提供至该调整器,且该电信号电极系提供该底座单元及该调整器之间的资料传递。7.如申请专利范围第1项之用以操作物质的系统,其中位在该底座单元上之接合区包含一被形成在该底座单元之一表面上的插座。8.如申请专利范围第7项之用以操作物质的系统,其中该插座具有可与该调整器相配合的周边规格。9.如申请专利范围第7项之用以操作物质的系统,其更包含一位在该底座单元上并用以将该调整器固定在该插座内的栓锁。10.如申请专利范围第1项之用以操作物质的系统,其中位在该底座单元上之接合区包含一与该底座单元相接合的个别组件。11.如申请专利范围第1项之用以操作物质的系统,其中该基底具有一顶侧、一底侧以及一介于此二者之间的内部区域,其中该内部区域具有与数个贮槽相连接的数个中等大小通路,且其中该等偏流元件包含暴露在该基底之一外表面上及/或位在基底上并容许探针穿越之接点上的电极端子。12.如申请专利范围第9项之用以操作物质的系统,其中该基底对于至少一些贮槽系具有开口,以容许位在该调整器-基底界面列内之探针的直接穿越。13.如申请专利范围第11项之用以操作物质的系统,其中该调整器-基底界面列包括被设置成呈一图形之数个电极,俾以配合位在该基底上之暴露电极端子。14.如申请专利范围第3项之用以操作物质的系统,其中该调整器-基底界面列包括至少一额外的界面组件。15.如申请专利范围第14项之用以操作物质的系统,其中该额外的组件包含一电磁辐射源,且其中该基底包括一为该电磁辐射可穿透之区域,其中当该基底被接合至位在该调整器上之基底接合区内时,该可穿透区域系与该辐射源排成一列。16.如申请专利范围第15项之用以操作物质的系统,其更包含一设在该调整器-基底界面列内之电磁辐射检测器,以使得当该基底被接合至该接合区内时,该检测器可接收由该可穿透区域所放射出之辐射。17.如申请专利范围第1项之用以操作物质的系统,其中位在该调整器上之接合区包含一形成于该调整器之一表面上的插座,该插座具有对应于该基底之外围规格的周围规格。18.如申请专利范围第17项之用以操作物质的系统,其更包含一位在该调整器上并用以将该基底固定在插座内的栓锁。19.如申请专利范围第1项之用以操作物质的系统,其更包含一贮存包括指南之电脑可读取式密码的实体媒体,其中该等指南可使一电脑界面接触该底座单元,并控制一藉由该底座单元以及存在于一被收纳在该底座单元上之一调整器所固持的试样基底内之试样所进行的分析。20.一种分析系统,其包含:一底座单元,其具有一底座界面列之接合区,该底座界面列内包括至少一界面组件;一基底,其具有一内含至少一个界面组件的界面列;以及一调整器,其被构形成可脱离地接合至该底座单元之接合区,并具有一个可脱离地接受该基底之接合区,其中该调整器将该基底固持在一相对于该底座单元的固定位置,并提供下列至少一者:(i)一由位在该底座界面列内之界面组件至该基底的连结路径,或(ii)一由位在该基底列内之界面组件至该底座单元的连结路径。21.如申请专利范围第20项之分析系统,其中该调整器包含一能量分配网路,其中位在该底座界面列内之界面组件为一能量源,且其中该基底列包含数个与位在该调整器内之能量分配网路相偶合的能量连接器。22.如申请专利范围第20项之分析系统,其中该底座界面列包括一能量放射检测器,其中该基底列包括一能量传递区,且其中当该调整器被设置在该底座单元之接合区上,且该基底被设置在该调整器之接合区上时,该调整器会使该能量放射检测器与该能量传递区排成一列。23.一种调整器,其可与一具有一含有一底座界面则之接合区的底座单元以及一具有一基底界面列的基底共同使用,该调整器包含:一具有一调整器-底座界面列之调整器本体,该调整器-底座界列包括至少一个被设置成在该调整器被接合至位在该底座单元上之接合区时,会配合位在该底座界面列内之对应连接器的动力及信号连接器,以及一具有一调整器-基底界面列之基底接合区,该调整器-基底界面列包括至少被设置成在该基底被接合至该调整器之接合区时,会与配合位在该基底界面列内之对应区域的偏流连接器。24.如申请专利范围第23项之调整器,其中该调整器-基底界面列包括至少一择自于由下列所组成之群中的额外界面组件:电力动力源、类比信号连接器、数位信号连接器、能量传递源、电子/电化学信号检测器、pH値检测器及能量放射检测器。25.如申请专利范围第24项之调整器,其中该额外组件包含一电磁辐射源,且其中该基底包括一为该电磁辐射可穿透之区域,其中当该基底被接合至位在该调整器上之基底接合区内时,该可穿透区域系与该辐射源排成一列。26.如申请专利范围第25项之调整器,其更包含一设在该调整器-基底界面列内之电磁辐射检测器,藉此,当该基底被接合至该接合区内时,该电磁辐射检测器可接受由该可穿透区域所放射出之辐射。27.如申请专利范围第23项之调整器,其中位在该调整器上之接合区包含一形成于该调整器之一表面上的插座,该插座具有对应于该基底之外围规格的周围规格。28.如申请专利范围第27项之调整器,其更包含一位在该调整器上并用以将该基底固定在插座内的栓锁。29.一种系统,其包含:一如申请专利范围第23项之调整器;以及一贮存包括指南之电脑可读取式密码的实体媒体,其中该等指南可使一电脑界面接触该底座单元,并控制一藉由该底座单元以及存在于一被收纳在该底座单元上之一调整器所固持的试样基底内之试样所进行的分析。30.一种系统,其可与一电脑、一具有一调整器接合区之底座单元以及一调整器共同使用,该系统包含:一基底,其可接受一待分析试样,且适用于被设置在该调整器上;以及电脑可读取式密码,其包括数个指南,该等指南可使一电脑界面接触该底座单元,并控制一藉由该底座单元以及存在于一被收纳在该底座单元上之一调整器所固持的试样基底内之试样所进行的分析。31.一种电脑程式物品,其可与一电脑、一具有一调整器接合区之底座单元、一具有一基底接合区之调整器以及一可接受一待处理物质之基底共同使用,该电脑程式物品包含:一贮存包括指南之电脑可读取式密码的实体媒体,其中该等指南可使一电脑界面接触该底座单元,并控制一藉由该底座单元以及存在于一被收纳在该底座单元上之一调整器所固持的物质基底内之试样所进行的过程。32.一种用以构形一分析系统之方法,该方法包含:提供一具有一接合区的底座单元,该接合区内包括至少一界面组件;将一调整器可脱离地接合至该底座单元之接合区,以使得一位在该调整器上之界面组件与一位在该底座单元上之对应界面组件相配合,其中该调整器包括一内含至少一界面组件的基底接合区;以及将一基底可脱离地接合至位在该调整器之基底接合区,以使得一位在该基底上之界面组件与一位在该调整器之对应界面组件相配合。33.如申请专利范围第32项之方法,其中该调整器系藉由将该调整器置入一位在该底座单元内之插座而可脱离地接合至该底座单元。34.如申请专利范围第32项之方法,其中该基底系藉由将该基底置入一位在该调整器内之插座而可脱离地接合至该调整器。35.如申请专利范围第32项之方法,其中该基底具有与数个贮槽相连接的数个通路,以及设在至少某些该等贮槽或通路处的偏流区。36.如申请专利范围第35项之方法,其更包含:将液流控制信号由该底座单元引导至该调整器,以及该调整器反应该液流控制信号而激发偏流区,藉此位在该基底上之对应偏流区被激发,以控制通过该等通路及位在该等贮槽内之液流。37.如申请专利范围第36项之方法,其中该激发步骤包含以电力偏移该等偏流区。38.如申请专利范围第36项之方法,其中该激发步骤包含以声能驱动该等偏流区。39.如申请专利范围第36项之方法,其中该引导及激发步骤包含将电脑可读取式指南提供至一与该底座单元相连接之电脑。40.如申请专利范围第32项之方法,其中该调整器更包含至少一电磁辐射源,该方法更包含将一电磁辐射源控制信号由该底座单元引导至该调整器。41.如申请专利范围第40项之方法,其中该调整器更包含一电磁辐射检测器,该方法更包含在该调整器内产生一信号,以反应由该基底所放射出之辐射,并将该信号引导至该底座单元。42.如申请专利范围第41项之方法,其中该信号产生步骤,且该信号产生步骤包含将电脑可读取式指南提供至一与该底座单元相连结之电脑。图式简单说明:第一图显示一包含本发明特征之分析系统的第一实施例。第二图显示一包含本发明特征之分析系统的第二实施例。第三图为一显示本发明系统之各组件间的讯息流之立体图。第四图显示一包含本发明系统之组件的典型分析系统。
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