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发明名称 Method for treatment of semiconductor substrate with chemical solution
摘要
申请公布号 GB9826120(D0) 申请公布日期 1999.01.20
申请号 GB19980026120 申请日期 1998.11.27
申请人 NEC CORPORATION 发明人
分类号 H01L21/304;H01L21/00;H01L21/306;H01L21/66 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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