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发明名称 ABRASIVE SOLUTION FOR COPPER BASED METAL AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR0165145(B1) 申请公布日期 1999.01.15
申请号 KR19940033879 申请日期 1994.12.13
申请人 发明人
分类号 C09G1/02;C23F3/06;H01L21/321;(IPC1-7):C23F1/18 主分类号 C09G1/02
代理机构 代理人
主权项
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