PLASMA VAPOR DEPOSITION APPARATUS,申请号KR19930008664-传众专利搜索

发明名称	PLASMA VAPOR DEPOSITION APPARATUS
摘要
申请公布号	KR0169148(B1)	申请公布日期	1999.01.15
申请号	KR19930008664	申请日期	1993.05.20
申请人	MURAYAMA, YOICHI;SHINCRON CO.,LTD;ITOH FINE CHEMICAL CO.,LTD	发明人	MURAYAMA, YOICHI;NARITA, TOSHIO
分类号	C23C14/24;(IPC1-7):C23C14/24	主分类号	C23C14/24
代理机构		代理人
主权项
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