发明名称 |
MASK FOR SEMICONDUCTOR AND THE MANUFACTURING METHOD |
摘要 |
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申请公布号 |
KR0166846(B1) |
申请公布日期 |
1999.01.15 |
申请号 |
KR19950011776 |
申请日期 |
1995.05.12 |
申请人 |
LG SEMICONDUCTOR CO., LTD. |
发明人 |
HU, HUN;JUNG, JAE-KEUN |
分类号 |
G03F1/20;G03F1/00;G03F1/38;(IPC1-7):G03F1/08;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F1/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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