| 发明名称 |
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR0161542(B1) |
申请公布日期 |
1999.01.15 |
| 申请号 |
KR19940022133 |
申请日期 |
1994.09.02 |
| 申请人 |
HITACHI CHEMICAL CO.,LTD |
发明人 |
HAGIWARA, HIDEO;KAJI, MAKOTO;NUNOMURA, MASATAKA |
| 分类号 |
G03F7/008;C08G73/10;G03F7/012;G03F7/027;G03F7/028;G03F7/037;G03F7/038;G03F7/075;H01L21/027;H01L21/312;H05K1/00;(IPC1-7):G03F7/075;G03F7/039 |
主分类号 |
G03F7/008 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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