发明名称 METHOD FOR OPTICAL INSPECTION AND LITHOGRAPHY
摘要 <p>A process for illuminating a structured surface which contains a photosensitive material. The structured surface is immersed in a super-critical fluid while the structure is illuminated.</p>
申请公布号 WO1999001797(A1) 申请公布日期 1999.01.14
申请号 US1998013650 申请日期 1998.07.02
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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