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发明名称
METHOD FOR OPTICAL INSPECTION AND LITHOGRAPHY
摘要
<p>A process for illuminating a structured surface which contains a photosensitive material. The structured surface is immersed in a super-critical fluid while the structure is illuminated.</p>
申请公布号
WO1999001797(A1)
申请公布日期
1999.01.14
申请号
US1998013650
申请日期
1998.07.02
申请人
发明人
分类号
主分类号
代理机构
代理人
主权项
地址
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