| 发明名称 | 用于带电粒子束的局部集团掩模 | ||
| 摘要 | 本发明的带电粒子束曝光的局部集团掩膜能够易于再成型,以便消除揿钮接头(snapping),不合格接触拉丝和其它的严重错误。掩模不仅形成有由主图形或器件图形构成的开口,还有由辅助图形构成的开口。当任何一个主图形具有不足设计尺寸的尺寸且易于引起揿钮接头或相似严重错误时,上述不合格图形和邻接它的辅助图形就连在一起以修正该尺寸。 | ||
| 申请公布号 | CN1204860A | 申请公布日期 | 1999.01.13 |
| 申请号 | CN98115088.8 | 申请日期 | 1998.04.25 |
| 申请人 | 日本电气株式会社 | 发明人 | 山田泰久 |
| 分类号 | H01L21/027;G03F7/00 | 主分类号 | H01L21/027 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王忠忠;张志醒 |
| 主权项 | 1．在用于成形由电子枪输出的电子束或由离子源输出的离子束实现的带电粒子束的局部集团掩模中，除有呈开口形的理想主图形之外，制作有呈开口形的辅助图形。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||