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发明名称 METHOD OF FORMING SILICON OXIDE THIN FILM WHERE GENERATION OF INITIAL PARTICLE IS SUPPRESSED
摘要
申请公布号 JPH118238(A) 申请公布日期 1999.01.12
申请号 JP19970175215 申请日期 1997.06.16
申请人 NIPPON STEEL CORP 发明人 ITO WATARU;SAKON TADASHI
分类号 H01L21/31;H01L21/316;(IPC1-7):H01L21/316 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
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