| 发明名称 |
HIGH DEPOSITION SPEED HALOGEN-DOPED SILICON OXIDE LAYER DEPOSITION PROCESS |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH118235(A) |
申请公布日期 |
1999.01.12 |
| 申请号 |
JP19980126857 |
申请日期 |
1998.04.21 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS INC |
发明人 |
SUGIARTO DIAN;HUANG JUDY H;CHEUNG DAVID |
| 分类号 |
C23C16/40;H01L21/316;(IPC1-7):H01L21/316 |
主分类号 |
C23C16/40 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
