| 发明名称 |
PHOTORESIST METHOD AND COMPOSITION TO BE USED FOR THAT METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH112900(A) |
申请公布日期 |
1999.01.06 |
| 申请号 |
JP19960287543 |
申请日期 |
1996.10.09 |
| 申请人 |
SHIPLEY CO LLC |
发明人 |
BRIAN KENNETH DANIELS;DAVID CHARLES MADOX;MICHAEL KARPOVICH TEMPLETON;PETER TREFONAS III;JAMES CALVIN WOODBLY;ANTHONY ZAMPINI |
| 分类号 |
G03F7/004;G03F7/039;(IPC1-7):G03F7/039 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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