发明名称 COMPOSES PHOTO-INITIATEURS STABLES AUX ACIDES, COMPOSITION LES CONTENANT, LEUR UTILISATION ET PROCEDES LES UTILISANT.
摘要 L'invention concerne des composés de formule I (voir formule) dans laquelle R1 est, par exemple, un radical alkyle en C1-C20 ou phényl (alkyle en C1-C6), substitué ou non substitué; R2, R3 et R4 sont chacun indépendamment un radical phényle ou biphénylyle, substitué ou non substitué; la somme des constantes o de Hammett (Eo) des substituants présents sur les radicaux aromatiques R2, R3 et R4 étant comprise entre +0,36 et + 2,58; et G est un radical qui est capable de former des ions positifs. Ces composés sont utiles comme photo-initiateurs pour des compositions photopolymérisables qui contiennent des groupes acides, facultativement en présence d'un co-initiateur. Application aux matières photosensibles.
申请公布号 BE1010762(A5) 申请公布日期 1999.01.05
申请号 BE19960000976 申请日期 1996.11.22
申请人 CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC. 发明人
分类号 C07F5/02;C08F2/46;C08F2/48;C08F2/50;C08F4/42;C08F4/52;C09B69/02;C09B69/06;C09D5/46;G03F7/029;(IPC1-7):G03F7/029 主分类号 C07F5/02
代理机构 代理人
主权项
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