| 主权项 |
1.一种式[I]衍生物其中R1及R2为相同或相异且各自为H,保护或无保护OH,R3及R4之一为保护或无保护羟取代甲基,另一为H,低碳烷基,或保护或无保护羟取代甲基;R5及R6为相同或相异且各自为H,取代或无取代低碳烷基,取代或无取代苯基,或保护或无保护胺基,或二者与毗邻N组合形成取代或无取代杂环基而-NR5R6接于啶环之2或6位,及其医药可接受性盐。2.如申请专利范围第1项之化合物,其中R1及R2为相同或相异且各自为氢原子或低碳烷氧基。3.如申请专利范围第1项之化合物,其中R5及R6与毗邻N形成的杂环基包含单环,双环及三环杂环基,其除毗邻N外,含有一或多个选自N,O及S原子之杂原子。4.如申请专利范围第3项之化合物,其中R5及R6与毗邻氮原子合并生成之杂环基系选自:啶基, 基,异基,环戊[b]啶基,咯并[2,3-b]啶基,咪唑并[4,5-b]啶基,啶并[2,3-d]唑基,啶并[2,3-d]唑基,啶基, 基, 基, 唑基,基,嗒基,庚因基,丁啶基,异基,咯基,苯并庚因基,啡啶基,苯并基,苯并咪唑基,基,及吗基,及其部分或完全氢化者。5.如申请专利范围第1至4项中任一项之化合物,其中由R5及R6与毗邻氮原子生成之杂环基系由一或多个选自下列之取代基取代(1)一-或二-低碳烷胺基,其中烷基部分选择性由吗基,单环烷基-取代胺基,啶基,咪唑基,六氢啶基或咯啶基取代,(2)啶基,(3)吗基,(4)低碳烷基取代三 基,(5)双(羟-低碳烷基)胺基羰基,(6)双(三-低碳烷基矽烷氧-低碳烷基)胺基羰基,(7)吗基羰基,(8)低碳烷基取代六氢基羰基,(9)羟-低碳烷基-取代六氢基羰基(10)三-低碳烷基矽烷氧-低碳烷基-取代六氢基羰基,(11)低碳烷氧羰基,(12)羧基,(13)选择性由吗基或啶基取代之低碳烷基,(14)选择性由六氢啶基,啶基,羟基或低碳烷氧基取代之低碳烷氧基,(15)氧基,(16)羟基,(17)嘧啶基,(18)选择性由二-低碳烷胺基或卤原子取代之苯基,(19)卤原子,(20)硝基,(21)咪唑基,(22)低碳伸烷基-二氧基。6.如申请专利范围第5项之化合物,其中经由R5及R6与毗邻氮原子合并生成之杂境基为含至少一个氧基取代基之杂环基。7.如申请专利范围第6项之化合物,其中该含至少一个氧基取代基之杂环基具有式: 之部分结构式。8.如申请专利范围第5项之化合物,其中该经由R5及R6与毗邻氮原子合并生成之杂环基为选自下列之任一种杂环基:(1)氧基-(或羟-)取代二氢-(或四氢-) 基其可选择性由选自下列一者取代:一-或二-低碳烷胺基,其中低碳烷基部分选择性由吗基,单环烷基取代胺基,啶基,咪唑基,六氢啶基或咯啶基取代;啶基;吗基;低碳烷基-取代三唑基;双(羟-低碳烷基)胺基羰基;双[三(低碳烷基)矽烷气-低碳烷基]胺基羰基;吗基-羰基;低碳烷基-取代六氢基羰基;羟-低碳烷基-取代六氢基羰基;三-低碳烷基矽烷基氧-低碳烷基-取代六氢基羰基;低碳烷氧羰基;羧基;低碳烷基;选择性含羟基或低碳烷氧基取代基之低碳烷氧基;及羟基,(2)氧基-(或羟-)取代二氢-(或四氢-) 基,(3)氧基-(或羟基-)取代二氢-(或四氢-)异 基其可选择性由选自下列之任一者取代:吗基-取代低碳烷基;选择性含六氢啶基,啶基或低碳烷氧取代基之低碳烷基;及羟基,(4)氧基-(或羟-)取代二氢-(或四氢-) 基其可选择性由选自下列一者取代:选择性含啶基取代基之低碳烷基;嘧啶基;低碳烷氧基;啶基;咪唑基;选择性由二-低碳烷胺基或卤原子取代之苯基;及羟基,(5)氧基-(或羟-)取代二氢-(或六氢-)啶基其可选择性以选自下列之一者取代:卤原子;低碳烷基;低碳烷氧基;硝基;啶基;及咪唑基,(6)氧基-(或羟-)取代二氢-(或四氢-)啶基,(7)氧基-(或羟-)取代六氢 基,(8)氧基-(或羟-)取代二氢基,(9)氧基-(或羟-)取代二氢-(四氢-)苯并庚因基,(10)二氢-(或四氢-)异 基,(11)氧基-(或羟-)取代二氢-(或四氢-)苯并基,(12)氧基-(或羟-)取代二氢-(或四氢-)唑基其可选择性以低碳烷基及/或氧基取代,(13)氧基-(或羟-)取代二氢苯并咪唑基,(14)氧基-(或羟-)取代二氢啡啶基,(15)氧基-(或羟-)取代二氢-(或四氢-)咯基其可选择性以低碳烷基取代,(16)六氢基,(17)低碳伸烷基二氧-取代六氢啶基,及(18)吗基。9.如申请专利范围第8项之化合物,其中该经由R5及R6与毗邻氮原子合并生成之杂环基为选自下列之任一种杂环基:(1)氧基-取代二氢-(或四氢-) 基或羟-取代二氢-(或四氢-) 基,(2)氧基-取代二氢-(或四氢-) 基,(3)氧基-取代二氢-(或四氢-)异 基,(4)氧基-取代二氢-(或四氢-) 基,(5)氧基-取代二氢-(或六氢-)啶基,(6)氧基-取代二氢-(或四氢-)啶基,(7)氧基-取代六氢 基,(8)氧基-取代二氢基,(9)氧基-取代二氢-(或四氢-)苯并庚因基,(10)二氢-(或四氢-)异基,(11)氧基-取代二氢-(或四氢-)苯并基,(12)氧基-取代二氢-(或四氢-) 唑基,(13)氧基-取代二氢苯并咪唑基,(14)氧基-取代二氢啡啶基,(15)氧基-取代二氢-(或四氢-)咯基,(16)六氢基,(17)低碳伸烷基二氧-取代六氢 啶基,及(18)吗基。10.如申请专利范围第9项之化合物,其中该经由R5及R6与毗邻氮原子合并生成之杂环基为选自下列之任一种杂环基:(1)氧基-取代二氧-(或四氢-) 基或羟-取代四氢基,(2)氧基-取代二氢 诺基,(3)氧基-取代二氢异基,(4)氧基-取代二氢 基,(5)氧基-取代二氢-(或六氢-)啶基,(6)氧基-取代二氢啶基,(7)氧基-取代六氢 基,(8)氧基-取代二氢基,(9)氧基-取代二氢苯并庚因基,(10)四氢异 基,(11)氧基-取代四氢苯并基,(12)氧基-取代二氢-(或四氢-) 基,(13)氧基-取代二氢苯并咪唑基,(14)氧基-取代二氢啡啶基,(15)氧基-取代四氢咯基,(16)六氢基,(17)低碳伸烷基二气-取代六氢 啶基,及(18)吗基。11.如申请专利范围第10项之化合物,其中该经由R5及R6与毗邻氮原子合并生成之杂环基为选自下列之任一种杂环基:(1)氧基-取代二氢-(或四氢-) 基,或羟-取代四氢 基其可选择性由选自下列之一者取代:一-或二-低碳烷胺基其中低碳烷基部分可由吗基,单环烷胺基,啶基,咪唑基,六氢啶基或咯啶基取代;啶基;吗基;低碳烷基-取代三唑基;低碳烷基-取代六氢羰基;低碳烷氧羰基;羟基;选择性含羟基或低碳烷氧基取代基之低碳烷氧基;(2)氧基-取代二氢 诺基,(3)氧基-取代二氢异 基其可选择性由选自下列之一者取代:吗基-取代低碳烷基;选择性含六氢啶基,啶基或低碳烷氧取代基之低碳烷氧基;及羟基,(4)氧基-取代二氢 基其可选择性由选自下列之一者取代:啶基-取代低碳烷基;嘧啶基;啶基;低碳烷氧基;咪唑基;及二-低碳烷胺基-取代苯基,(5)氧基-取代二氢啶基其可由选自下列之一者取代:低碳烷基;低碳烷氧基;啶基;及咪唑基,(6)氧基-取代二氢啶基,(7)氧基-取代六氢 基,(8)氧基-取代二氢基,(9)氢基-取代四氢苯并基,(10)氧基-取代二氢-(或四氢-) 诺基其可选择性由低碳烷基及氧基取代,(11)氧基-取代二氢苯并咪唑基,及(12)氧基-取代二氢啡啶基。12.如申请专利范围第10项之化合物,其中该R5及R6与毗邻氮原子合并生成之杂环基为选自下列之任一种杂环基:(1)氧基-取代二氢-(或四氢-) 基或羟-取代四氢基其可选择性由选自下列之一者取代:一-或二-低碳烷胺基其中低碳烷基部分系由吗基,啶基,咪唑基,六氢啶基或咯啶基取代;啶基;吗基;低碳烷基-取代三唑基;低碳烷基;及选择含羟基或低碳烷氧取代基之低碳烷氧基,(2)氯基-取代二氢 基,(3)氧基-取代二氢异 基其可选择性由选自下列之一者取代:吗基-取代低碳烷基;含六氢啶基或低碳烷氧取代基之低碳烷氧基;及羟基,(4)氧基-取代二氢 基其可选择性由选自下列之一者取代:啶基-取代低碳烷基;嘧啶基;啶基;低碳烷氧基;及咪唑基;(5)氧基-取代二氢啶基其可以选自低碳烷基;低碳烷氧基;啶基;及咪唑基取代,(6)氧基-取代四氢苯并基,及(7)氧基-取代二氢-(或四氢-) 唑基其可选择性由低碳烷基及氧基取代。13.如申请专利范围第12项之化合物,其中该经由R5及R6与毗邻氮原子合并生成之杂环基为选自下列之任一种杂环基:(1)氧基-取代二氢 基,或羟-取代四氢 基其可选择性由选自下列之一者取代:一-或二-低碳烷胺基其中低碳烷基部分系由吗基,啶基,咪唑基,或六氢啶基取代;啶基;吗基;低碳烷基-取代三唑基;及低碳烷氧基由低碳烷氧基或羟基取代,(2)氧基-取代二氢异 基其可选择性由选自下列之一者取代:吗基-取代低碳烷基;低碳烷氧基含六氢啶基或低碳烷氧基;及羟基(3)氧基-取代二氢 基其可选择性由选自啶基-取代低碳烷基;嘧啶基;啶基;低碳烷氧基;及咪唑基之一基取代,(4)氧基-取代二氢啶基其由选自低碳烷基;低碳烷氧基;啶基;及咪唑基之一取代,及(5)氧基-取代二氢-(或四氢-) 唑基其可选择性由低碳烷基及氧基取代。14.如申请专利范围第13项之化合物,其中该经由R5及R6与毗邻氮原子合并生成之杂环基为选自下列之任一种杂环基:(1)氧基-取代二氢 基其可选择性由选自下列之一者取代:一-或二-低-碳烷胺基其中低碳烷基部分由吗基, 啶基,咪唑基或六氢啶基取代;啶基;吗基;低碳烷基-取代三唑基;及由低碳烷基或羟基取代之低碳烷氧基,(2)氧基-取代二氢异 基其可选择性由选自吗基-取代低碳烷基及六氢啶基-取代低碳烷氧基之一基取代,(3)氧基-取代二氧基其可选择性由选自啶基-取代低碳烷基;嘧啶基;啶基;低碳烷氧基;及咪唑基之一基取代,及(4)氧基-取代二氢啶基其系由选自低碳烷基,低碳烷氧基及咪唑基之一基取代。15.如申请专利范围第10项之化合物,其中该经由R5及R6与毗邻氮原子合并生成之杂环基为选自下列之任一种杂环基:(1)氧基-取代二氢-(或四氢-) 基或羟-取代四氢基其可选择性由选自下列之一者取代:一-或二-低碳烷胺基其中低碳烷基部分系由吗基,单环烷基-取代胺基,啶基,咪唑基或六氢啶基取代;啶基;吗基;低碳烷基-取代六氢基羰基;低碳烷氧羰基;低碳烷基;羟基;及低碳烷氧基其选择性含羟基或低碳烷氧基取代基,(2)氧基-取代二氢异 基其可选择性由选自吗基取代低碳烷基;及含六氢啶基,啶基或低碳烷氧基取代基之低碳烷氧基取代,(3)氧基-取代二氢 基其可选择性由选自下列之一基取代:啶基-取代低碳烷基;嘧啶基;低碳烷氧基;啶基;咪唑基;及二-低碳烷胺基-取代苯基,(4)氧基-取代二氢啶基其由啶基取代,(5)氧基-取代二氢啶基,(6)氧基-取代六氢 基,(7)氧基-取代二氢基,(8)氧基-取代四氢苯并基,(9)氧基-取代二氢-(或四氢-) 唑基其可选择性由低碳烷基及氧基取代,(10)氧基-取代二氢苯并咪唑基,及(11)氧基-取代二氢啡啶基。16.如申请专利范围第15项之化合物,其中该经由R5及R6与毗邻氮原子合并生成之杂环基为选自下列之任一种杂环基:(1)氧基-取代二氢-(或四氢-) 基其选择性由选自下列之一者取代:一-或二-低碳烷胺基其中低碳烷基部分系由吗基,咪唑基或啶基取代;吗基;及低碳烷基,(2)氧基-取代二氢异 基其可选择性由选自吗基取代低碳烷基及含啶基或低碳烷氧取代基之低碳烷氧基取代,(3)氧基-取代二氢 基其由选自下列之一者取代:啶基-取代低碳烷基;低碳烷氧基;啶基及二-低碳烷胺基-取代苯基,及(4)氧基-取代二氢啡啶基。17.如申读专利范围第16项之化合物,其中该经由R5及R6与毗邻氮原子合并生成之杂环基为选自下列之任一种杂环基:(1)氧基-取代二氢-(或四氢-) 基其选择性由选自下列之一者取代:一-或二-低碳烷胺基其中低碳烷基部分系由啶基取代;吗基,及低碳烷基,(2)氧基-取代二氢异 基其选择性由选自吗基-取代低碳烷基及含啶基或低碳烷氧取代基之低碳烷氧基取代,(3)氧基-取代二氢 基其由选自啶基-取代低碳烷基;低碳烷氧基;啶基;及一-低碳烷胺基-取代苯基,及(4)氧基-取代二氢啡啶基。18.如申请专利范围第10项之化合物,其中该经由R5及R6与毗邻氮原子合并生成之杂环基为选自下列之任一种杂环基:(1)氧基-取代二氢-(或四氢-) 基其可选择性由选自下列之一者取代:一-或二-低碳烷胺基其中低碳烷基部分由吗基,咪唑基或啶基取代;吗基;及低碳烷基,(2)氧基-取代二氢异 基其由选自吗基-取代低碳烷基;及低碳烷氧基-取代低碳烷氧基之一基取代,及(3)氧基-取代二氢 基由选自啶基-低碳烷基;啶基;及低碳烷氧基之一基取代。19.如申请专利范围第1,3,4,6,7,11,15,16,17或18项中任一项之化合物,其中R1及R2为相同或相异且各自为经保护羟基,及R3及R4各自为羟基-取代甲基。20.如申请专利范围第19项之化合物,其中该经保护羟基为由烷基保护之羟基。21.如申请专利范围第1项之化合物,系1-[2-(2-氧基-1,2-二氢 -1-基)-4-啶基]-2,3-双(羟甲基)-6,7-二甲氧,或其医药可接受性盐。22.如申请专利范围第1项之化合物,系1-2-[2-氧基-4-(2-六氢啶基乙基)胺基-1,2-二氢 -1-基]-4-啶基-2,3-双(羟甲基)-6,7-二甲氧,或其医药可接受性盐。23.如申请专利范围第1项之化合物,系1-2-[2-氧基-4-(4-啶基)-1,2-二氢 -1-基]-4-啶基-2,3-双(羟甲基)-6,7-二甲氧,或其医药可接受性盐。24.如申请专利范围第1项之化合物,系1-[2-(2-氧基-3-吗基-1,2-二氢 -1-基)-4-啶基]-2,3-双(羟甲基)-6,7-二甲氧,或其医药可接受性盐。25.如申请专利范围第1项之化合物,系1-2-[4-(3-啶基)-1(2H)-酮-2-基]-4-啶基-2,3-双(羟甲基)-6,7-二甲氧,或其医药可接受性盐。26.如申请专利范围第1项之化合物,系12-[4-(3-啶基甲基)-1(2H)- 酮-2-基]-4-啶基-2,3-双(羟甲基)-6,7-二甲氧,或其医药可接受性盐。27.如申请专利范围第1项之化合物,系1-2-[6,7-二甲氧-4-(3-啶基)-1(2H)-酮-2-基]-4-啶基-2,3-双(羟甲基)-6,7-二甲氧,或其医药可接受性盐。28.如申请专利范围第1项之化合物,系1-2-[4-(3-啶基)-1(2H)-酮-2-基]-4-啶基-2,3-双(羟甲基)-6,7-二乙氧,或其医药可接受性盐。29.如申请专利范围第1项之化合物,系1-2-[4-(3-啶基)-1(2H)-酮-2-基]-4-啶基-2,3-双(羟甲基)-6-甲氧-7-乙氧,或其医药可接受性盐。30.一种制备式[I]衍生物或其医药可接受性盐之方法:其中R1及R2为相同或相异且各自为H,保护或无保护OH,R3及R4之一为保护或无保护羟取代甲基,另一为H,低碳烷基,或保护或无保护羟取代甲基;R5及R6为相同或相异且各自为H,取代或无取代低碳烷基,取代或无取代苯基,或保护或无保护胺基,或二者与毗邻N组合形成取代或无取代杂环基,而-NR5R6接于啶环之2或6位,该方法包括式[II]化合物:其中R11及R21为相同或相异各自为氢原子或保护或无保护羟基,R31及R41之一为保护或无保护羟-取代甲基,另一为氢原子,低碳烷基或保护无保护羟-取代甲基,及X为卤原子而接于啶环之2或6位,与式[III]含氮化合物反应:其中R5及R6定义如上,及此处R11及/或R21为保护羟基,及R31及/或R41为保护羟-取代甲基,选择性接着去除羟基保护基,部分或全部依据保护基种类而定,及若有所需再度保护6及/或7位置羟基或2及/或3位置之羟甲基,及又若有所需保护整个羟基或羟甲基部分,及若有所需,转成其医药可接受性盐。31.一种制备下式[I']衍生物或其医药可接受性盐之方法:其中R1及R2为相同或相异且各自为氢原子或经保护或无保护羟基,R3及R4之一为经保护或无保护羟基-取代甲基,及另一者为氢原子,低碳烷基,或保护或无保护羟基-取代甲基;R51及R61与毗邻氮原子合并生成含至少一个氧基取代基之杂环基而-NR51R61接于啶环之2或6位,该方法包括式[IV]化合物:其中R11及R21为相同或相异且各自为保护或无保护羟基,R31及R41之一为保护或无保护羟-取代甲基,而另一为氢原子,低碳烷基,或保护或无保护羟基-取代甲基,与式[V]含氮化合物反应:其中R52及R62与毗邻氮原子合并形成含至少一个卤取代基之杂环基,及此处R11及/或R21为保护羟基及R31及/或R41为保护羟-取代甲基。选择性接着去除羟基保护基,部分或全部依据保护基种类而定,及若有所需再度保护6及/或7位置羟基或2及/或3位置之羟甲基,及又若有所需保护整个羟基或羟甲基部分,及若有所需转成其医药可接受性盐。32.一种制备式[I"]衍生物或其医药可接受性盐之方法:其中R1及R2为相同或相异且各自为氢原子或经保护或无保护羟基,R3及R4之一为经保护或无保护羟基-取代甲基,及另一者为氢原子,低碳烷基,或保护或无保护羟基-取代甲基;及R53及R63为相同或相异且各自为氢原子,取代或无取代烷基,取代或无取代苯基,或保护或无保护胺基,或二者与毗邻氮原子合并形成含选择性取代基且对还原反应安定之杂环基,而-NR53R63接于啶环之2或6位,该方法包括式[VI]化合物:其中R11及R21为相同或相异且各自为氢原子或保护或无保护羟基;R7及R8之一为自由或酯化羧基,另一为氢原子,低碳烷基,或自由或酯化羧基;及其它符号定义如前,或其内酸酐化合物接受还原反应,及此处R11及/或R21为保护羟基,选择性接着去除羟基保护基,及若有所需再度保护6-及/或7-位置羟基或2-及/或3-位置羟甲基,及又若有所需保护整个羟基或羟甲基部分,及若有所需转成其医药可接受性盐。33.一种式[II]化合物:其中R11及R21为相同或相异各自为氢原子或保护或无保护羟基;R31及R41之一为保护或无保护羟-取代甲基,另一为氢原子,低碳烷基或保护或无保护羟-取代甲基;及X为氯原子或溴原子而接于啶环之2或6位。34.一种式[VI]化合物:其中R11及R21为相同或相异且各自为氢原子或保护或无保护羟基;R7及R8之一为自由或酯化羧基,另一为氢原子,低碳烷基,或自由或酯化羧基;及R53及R63为相同或相异且各自为氢原子,取代或无取代烷基,取代或无取代苯基,或保护或无保护胺基,或二者与毗邻氮原子合并生成选择性经取代且对还原反应安定之杂环基,而-NR53R63接于啶环之2或6位。35.一种如下式[I-a]衍生物或其医药可接受性盐之制法:其中R1及R2为相同或相异且各自为H,保护或无保护OH,R3及R4之一为保护或无保护羟甲基,另一为H,低碳烷基,或保护或无保护羟甲基;R91,R92及R93为相同或相异各自为氢原子,羟基,低碳烷氧基,选择性由啶取代之低碳烷基,选择性由二-低碳烷胺基或卤原子取代之苯基,啶基,嘧啶基或咪唑基,而 接于啶环之2或6位此制法乃令如下式[I-b]化合物或其盐,其中R11及R21为相同或相异各自为氢原子或保护或无保护羟基,R3l及R41之一为保护或无保护羟-取代甲基,另一为氢原子,低碳烷基或保护无保护羟-取代甲基而-NH-NH2接于啶环之2或6位,与如下式[VII]羧酸化合物或其盐反应,式中R91,R92及R93同前,R11及/或R21为被保护羟基,R31及R41为被保护羟基取代甲基,然后任意去除羟基保护基(部分或全部受eM于保护基之种类),必要时再保护6-及/或7-位之羟基,或在2-及/或3-位之羟甲基部分,又必要时保护全部羟基或羟甲基,及必要时转变成其医药可接受性盐。36.一种如下式[I-a']衍生物或其医药可接受性盐之制法:其中R1及R2为相同或相异且各自为H,保护或无保护OH,R3及R4之一为保护或无保护羟甲基,另一为H,低碳烷基,或保护或无保护羟甲基;其中R92及R93为相同或相异各自为氢原子,羟基,低碳烷氧基,选择性由啶取代之低碳烷基,选择性由二-低碳烷胺基或卤原子取代之苯基,啶基,嘧啶基或咪唑基,而 接于啶环之2或6位,此制法乃令如下式[I-b]化合物或其盐,其中R11及R21为相同或相异各自为氢原子或保护或无保护羟基,R31及R41之一为保护或无保护羟-取代甲基,另一为氢原子,低碳烷基或保护无保护羟-取代甲基而-NH-NH2接于啶环之2或6位,与如下式[VIII]酐化合物或其盐反应,式中R92及R93同前,R11及/或R21为被保护羟基,R31及R41为被保护羟基取代甲基,然后任意去除羟基保护基(部分或全部取决于保护基之种类),必要时再保护6-及/或7-位之羟基,或在2-及/或3-位之羟甲基部分,又必要时保护全部羟基或羟甲基,及必要时转变成其医药可接受性盐。 |
