| 发明名称 |
Photoresist materials based on polystyrene |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0568496(B1) |
申请公布日期 |
1998.12.30 |
| 申请号 |
EP19930810284 |
申请日期 |
1993.04.20 |
| 申请人 |
OLIN MICROELECTRONIC CHEMICALS, INC. |
发明人 |
STEINMANN, ALFRED, DR. |
| 分类号 |
H05K3/06;C07C43/29;C07C43/215;C07C43/225;C07C43/285;C07C69/96;C07D307/20;C07D309/12;C08F12/22;C08F22/36;C08F26/00;C08F212/00;C08F212/12;C08F222/40;C08F226/02;G03F7/039;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/039;G03F7/023 |
主分类号 |
H05K3/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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