| 摘要 |
<p>Bei einem Verfahren zur Fokussierung bei der Abbildung strukturierter Oberflächen von scheibenförmigen Objekten besteht die Aufgabe, der Bildverarbeitung Bilder zur Verfügung zu stellen, die zu einer Erhöhung der Erkennungssicherheit von Fehlern und einer Senkung der Pseudofehlerrate führen. Ein durch geregelte Verstellung hergestellter Abstand zwischen einer zur Auflage für die Objekte dienenden Trägerebene zu einer Bezugsebene wird gemäß der Erfindung durch einen ungeregelten, mindestens für ein Teilgebiet der Oberfläche anzuwendenden Voreinstellwert der Regelung korrigiert. Das Verfahren ist vorwiegend anwendbar in der Prozeßkontrolle von Halbleiterwafern im Herstellungsprozeß.</p> |
