LOW TEMPERATURE PLASMA-ENHANCED FORMATION OF TiN FILMS,申请号EP19950915525-传众专利搜索

发明名称	LOW TEMPERATURE PLASMA-ENHANCED FORMATION OF TiN FILMS
摘要
申请公布号	EP0763146(B1)	申请公布日期	1998.12.23
申请号	EP19950915525	申请日期	1995.04.03
申请人	TOKYO ELECTRON LIMITED	发明人	FOSTER, ROBERT, F.;HILLMAN, JOSEPH, T.
分类号	C23C8/36;C23C8/02;C23C16/02;C23C16/34;C23C16/50;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/768;(IPC1-7):C23C16/02	主分类号	C23C8/36
代理机构		代理人
主权项
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