| 发明名称 | 检验井孔测量的质量的方法 | ||
| 摘要 | 提供一种检验地层内的井孔测量质量的方法,所述方法包括以下步骤:a.选择一种在所述井孔内测定地场参数和井孔位置参数的传感器;b.确定使用所述传感器测定时所述参数的理论测量不精确性;c.操作所述传感器,在井孔内的选定位置测定位置参数和地场参数;d.求出在所述位置测得的地场参数与该位置上地场参数的已知量的差,并求出所述差与地场参数测量不精确性之间的比值;e.从所述比值和位置参数的理论测量不精确性的乘积中求出所测位置参数的不精确性。 | ||
| 申请公布号 | CN1202949A | 申请公布日期 | 1998.12.23 |
| 申请号 | CN96198489.9 | 申请日期 | 1996.11.20 |
| 申请人 | 国际壳牌研究有限公司 | 发明人 | 罗宾·A·哈特曼 |
| 分类号 | E21B47/022 | 主分类号 | E21B47/022 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 郑修哲 |
| 主权项 | 1.一种检验地层内的井孔测量质量的方法，所述方法包括：a.选择一种在所述井孔内测定地场参数和井孔位置参数的传感器；b.求出使用所述传感器测定时所述参数的理论测量不精确性；c.操作所述的传感器，在井孔内的选定位置测定位置参数和地场参数；d.求出在所述位置测得的地场参数与该位置上地场参数的已知量的差，并求出所述差与地场参数测量不精确性之间的比值；e.从所述比值和位置参数的理论测量不精确性的乘积中求出所测位置参数的不精确性。 | ||
| 地址 | 荷兰海牙 | ||