发明名称 | 气相聚合装置 | ||
摘要 | 本发明的目的是为了防止粉状聚合物在气相聚合器的气体分布板的下方气室内滞留、附着、长大,和防止由粉状聚合物堵塞气体分布板。本发明的解决手段是,气相聚合器具备有置于气体分布板下方、同时将由气相循环系统送到气相聚合器1导入口3b来的气相朝向气体分布板9的气流沿气相聚合器1的内壁面分配的、上面呈倾斜形状的倾斜体2a。 | ||
申请公布号 | CN1202393A | 申请公布日期 | 1998.12.23 |
申请号 | CN98114912.X | 申请日期 | 1998.05.20 |
申请人 | 三井化学株式会社 | 发明人 | 冈野俊博;岩月幸平;山本良一;菊池义明;大谷悟 |
分类号 | B01J3/00;C08F2/34 | 主分类号 | B01J3/00 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 温大鹏 |
主权项 | 1.气相聚合装置,配备有将在用固体状聚合催化剂以气相进行聚合反应生成粉状聚合物的气相聚合用聚合器内未供聚合反应的未反应单体和其它气相由上述聚合器引出再度供给上述聚合器的气相循环系统,其特征在于,上述聚合器具备:将由上述循环系统送到其内部来的气相扩散分布到上述聚合器内的气体分布板,和置于该气体分布板下方、同时将由上述循环系统送到对着上述聚合器的导入口来的气相对着上述分布板的气流沿上述聚合器的内壁面进行分配的、上面呈倾斜形状的倾斜体。 | ||
地址 | 日本东京都 |