| 发明名称 |
Substrate treating system and substrate treating method |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG55323(A1) |
申请公布日期 |
1998.12.21 |
| 申请号 |
SG19970001757 |
申请日期 |
1997.05.28 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
KITANO JUNICHI;SHINYA HIROSHI;KATANO TAKAYUKI;YAEGASHI HIDETAMI;KAWAKAMI YASUNORI;KAWANO FUMIHIKO |
| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/00;H01L21/677;(IPC1-7):H01L21/00;H01L21/027;H01L21/02;H01L21/68 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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