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发明名称 Optisches Nahfeld-Verfahren für Mikrolithographie und Mikrolithographie-Vorrichtungen unter Verwendung desselben
摘要
申请公布号 DE69032277(T2) 申请公布日期 1998.12.17
申请号 DE19906032277T 申请日期 1990.09.21
申请人 SIM (SOCIETE D`INVESTISSEMENT DANS LA MICROSCOPIE) S.A., MARSANNAY LA COTE, FR 发明人 DE FORNEL, FREDERIQUE, F-21000 DIJON, FR;GOUDONNET, JEAN-PIERRE, F-21000 DIJON, FR;MANTOVANI, JAMES, STATES BORO, GA 30458, US
分类号 G03F7/20;H01J37/304;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
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